鍍膜機產品及廠家
小型蒸發鍍膜儀，實驗室氣相沉積設備用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。
更新時間:2025-04-21
全自動熱蒸發鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實驗室儀器優勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動檢測每根碳繩的狀態，并在鍍膜過程中自動切換；4. 每根碳繩使用會進行自動除氣，確保碳膜的純凈度；5. 操作非常簡單，多只需設置兩個參數即可；
更新時間:2025-04-21
英國oxford vacuum 電子束蒸發鍍膜機vapour station 4,是一款微納器件樣品制備系統，為有機無機多源有氣相分子沉積系統，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發及手 套箱保護條件下器件后期制作，主要用于有機半導體材料的物理化學性能，研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電蒸發鍍膜究。
更新時間:2025-04-17
法國plassys微波等離子體化學氣相沉積系統 ssdr 150 ，門用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學窗口。ssdr150 不斷優化的微波及等離子體設計，是一款可靠的、穩定的、長時間運行的金剛石薄膜生長系統，能夠完美地適用于高校科研和企業生產。
更新時間:2025-04-17
英國hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規科研的全功能系統。
更新時間:2025-04-17
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲常用加工條件.
更新時間:2025-04-17
美國neocera pld 脈沖激光沉積系統 p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結構和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統 ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發形成等離子體。對靶材的非平衡提取（燒灼）使等離子體的組成與靶材的化學計量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學計量與沉積
更新時間:2025-04-17
jc503-eb100提拉鍍膜機是一款基本型提拉鍍膜機，可自動完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復鍍膜次數可達999次。所有運行參數如運行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時間，間隔時間，重復鍍膜次數等均可在觸屏上方便設置。
更新時間:2025-04-14
xf803-931浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法（sol--gel法，簡稱sg法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進口配件，精準控制提拉速度，多次重復鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、循環鍍膜次數、下降速度、停留時間均可以通過程序精確控制。適用于玻璃、si（100）、si（111）、藍寶石（al2o3）、瓷片以及樹脂基板等常用基板。
更新時間:2025-04-14
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動物紅外監測相機支持3000萬像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動反應快，成像清晰，色彩真實。大可支持256gb sd存儲卡，兼容各種品牌。可搭載我司自主研發的云平臺圖像處理系統（軟著登記號：2022sr0370995），對抓拍到的圖片及視頻進行識別與分析，還可搭配手機app遠程控制相機（軟著登記號：2022sr0370994），遠程控制修改參數，
更新時間:2025-04-14
實驗室流延薄膜機 單螺桿擠出機 小型流延薄膜機型號：aod-xh-432 設備規數 型號aod-xh-25 單螺桿擠出機 機架采用型鋼焊接而成,并經回應力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時間:2025-04-14
六源有機無機聯合蒸發鍍膜設備適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。opv系列真空蒸發鍍膜與手套箱聯合系統的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發系統工作室置于glove box無水、無氧、無塵的超純環境中，pvd與glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、oled等研究領域。
更新時間:2025-03-29
leica em ace600是優良的多用途高真空薄膜沉積系統，設計來根據您的fe-sem和tem應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2025-03-10
比利時almeco鼓風機，德國總部直接采購，原裝，貨期，支持技術選型，為您提供一對一優勢解決方案：赫爾納大連公司在中國設有10個辦事處，可為您提供的維修服務。
更新時間:2025-03-05
技術參數：l自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和佳的導電噴鍍效果。l通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。
更新時間:2025-03-05
縱向式cat-cvd設備ccv系列ccv series是a-si鍍膜用的縱向式cvd設備。有30年以上的量產實績。在各個chamber通過低壓鍍膜，得到高品質的膜質。
更新時間:2025-03-05
枚葉式pecvd設備cme-200e/400枚葉式pe-cvd設備cme-200e/400是適用于si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產用pecvd設備。
更新時間:2025-03-05
load-lock式plasma cvd設備 cc-200/400load-lock式plasma cvd設備cc-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。
更新時間:2025-03-05
rb-200s環形高壓鼓風機--上海梁瑾機電設備有限公司,rb環形高壓風機自進入市場以來,深受廣大新老用戶的信任和支持,風機具有低噪音,大風量,高壓力,輕量化,無油氣等特點;產品規格多種,常用型號備有大量現貨.了解更多環形高壓風機相關產品信息,請致電我們!
更新時間:2024-12-11
cx-75sa鼓風機--上海梁瑾機電設備有限公司,全風透浦式風機自進入市場以來,深受廣大新老客戶的信賴和支持,風機具有高壓,大風量,低噪音,輕量化等特點,全風透浦式風機,全風透浦式鼓風機,全風多段式風機,全風直葉式風機,知道吸氣量及壓力后,即可根據性能表作選擇.了解更多全風風機相關信息,請致電我們！
更新時間:2024-12-11
大風量風機 2xb730-h37風帕克風機 4kw 380v 風量每小時420立方 -260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設計，可適合長時間使用。 特殊葉片設計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2024-10-29
貝富克風機2hb730-ah26 貝富克高壓風機，大風量 高壓力。風量420立方壓力-260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設計，可適合長時間使用。 特殊葉片設計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2024-10-29
除濕設備風機 2xb910-h07貝富克風機 高壓力大風量 適用于切紙機、卷煙濾嘴成型機、電鍍槽液攪拌、霧化干燥機、水處理曝氣、絲網印刷機、照相制版機、注塑機自動上料烘干機、液體灌裝機、電焊設備、電影機械、紙張運送、干洗衣服、清洗、空氣除塵、干瓶、氣體傳送、送料、收集等方面。
更新時間:2024-10-29
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010為一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標配膜厚監測裝置。
更新時間:2024-09-14
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv_ct-010為一款結構緊湊、全自動型的熱蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理(可選項)。模塊化設計可輕松避免交叉污染。ccu-010標配膜厚監測裝置。
更新時間:2024-09-14
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010為一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標配膜厚監測裝置。
更新時間:2024-09-14
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv_sp-010為一款結構緊湊、全自動型的離子濺射鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免交叉污染。標配ftm膜厚監測裝置。
更新時間:2024-09-14
分子層沉積系統mld (molecular layer deposition)是種高的有機聚合物薄膜與有機無機雜化膜制備技術，可以實現每個循環沉積個分子層，精確控制厚度，在科研和工業界有非常好的發展景。分子層沉積系統mld相對于傳統的有機聚合物薄膜沉積工藝（旋涂，熱蒸發）而言，薄膜厚度精確可控（控制循環數），厚度更均勻、階梯覆蓋率和保型性更好、重復性更可靠。
更新時間:2024-08-28
實驗室浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 型號：h18068實驗室浸漬提拉鍍膜機技術參數：提拉行程：0～150mm（可定制行程）提拉速度范圍：1～55000μm/s，最小分
更新時間:2024-06-11
該產品為臺式磁控濺射鍍膜機，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（au），鈀（pd），鉑（pt）和金/鈀（au / pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（sem）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。
更新時間:2024-04-10
cif烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻性要求高的實驗室。
更新時間:2024-03-13
cif勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ito 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。
更新時間:2024-03-13
英國ossila公司浸漬提拉鍍膜機性能卓越，內置軟件，操作簡單，價格經濟，為科研領域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設計的精密儀器。目前在化學、材料科學的研究中，被廣泛應用于溶膠-凝膠（sol-gel）法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝，可以精準控制膜片提出速度，進而控制涂層厚度，保證良好重復性。提供2年的質保，為使用者提供更高的保障。
更新時間:2024-03-13
小型真空鎢舟熱蒸鍍儀kt-z1650cvd 噴金儀小型蒸鍍儀 鄭州科探kt-z1650cvd，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用
更新時間:2023-12-20
電阻式熱蒸發鍍膜機 電阻式熱蒸發鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面
更新時間:2023-12-20
水冷型濺射儀，kt-z1650pvd，是一種緊湊型全自動濺射鍍膜機，使用非常簡單。由于獨特的插件概念，該設備很容易配置濺射或蒸發，只需更換工藝頭
更新時間:2023-12-20
中山火炬開發區ul70愛德華真空泵油光鍍膜機 edwards eh 機械增壓泵采用獨特的液力驅動，可實現高效的動力傳送，在經濟性、性能和緊湊性方面擁有優勢。這些增壓泵適用于高壓力差的場合，這
更新時間:2023-11-15
江門新會鍍膜機sv630b萊寶真空泵油霧分離器 在泵腔中，氣體被壓縮后通過排氣閥排入大氣中，壓縮氣體中夾帶的油收集在油霧過濾器中；它不僅過濾油，而且還過濾機械雜質。送入被稱為“氣
更新時間:2023-11-15
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